| 加工类型：激光光刻 |
Super Lithography 3D 纳米光刻系统提供纳米级高精度的无掩膜光刻和纳米级3D 微纳结构打印，配合定制的软件系统，可以智能完成高精度无掩膜光刻的制造和其它纳米级 3D 器件的激光直写光刻。
主要特点：
· 纳米加工精度，重复定位精度小于 2 nm；
· 双光子聚合物光刻胶，最小线宽 150nm；
· 可实现 400 纳米以下三维木堆积结构；
· 300um×300um×300um 单次加工尺寸；
· 高灵敏度 CCD 相机实时加工过程观测；
· 光束校准设计，以确保***的激光聚焦;
· 可定制每一条线加工的激光功率和扫描速度;
· 可定制每一个点加工的激光功率和曝光时间;
· 多个加工文件一次点击完成加工。
应用领域：
光学制造；仿生结构；静态光学数据存储；新药研发；流体力学；机械制造；光纤传感
